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J-GLOBAL ID：201003081567921677

金属イオンの吸着剤、並びにそれを用いた吸着方法

Inventor： 馬場 由成
Applicant, Patent owner： 国立大学法人 宮崎大学
Agent (4)： 平木 祐輔 ,  石井 貞次 ,  藤田 節 ,  遠藤 真治
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2009022864
Publication number (International publication number)：2010179205
Application date： Feb. 03, 2009
Publication date： Aug. 19, 2010
Summary：

【課題】電子工業から排出される廃棄物、使用済み液晶パネル、亜鉛精錬残渣等からインジウム及びガリウムを効率的に回収することができる、キトサン誘導体からなる吸着剤を提供すること。【解決手段】式(II)で表されるキトサン誘導体を含む、インジウム及びガリウムの吸着剤である。【選択図】図5

Claim (excerpt)：

式(I)

IPC (5)：

B01J 20/24 ,  C22B 7/00 ,  C22B 58/00 ,  C22B 3/42 ,  C08L 5/08

FI (6)：

B01J20/24 B ,  C22B7/00 A ,  C22B7/00 J ,  C22B58/00 ,  C22B3/00 M ,  C08L5/08

F-Term (14)：

4G066AA52D ,  4G066AA53D ,  4G066AC01B ,  4G066AC39B ,  4G066CA46 ,  4G066DA07 ,  4G066GA11 ,  4J002AB051 ,  4J002GD02 ,  4K001AA11 ,  4K001AA15 ,  4K001BA16 ,  4K001BA22 ,  4K001DB35

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

• ホスホノメチル化キトサン
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-305289   Applicant：チバ-ガイギーアクチエンゲゼルシャフト
• 金属基体の腐食を抑制するための組成物及び方法
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2003-514043   Applicant：マクダーミド・インコーポレーテツド
• 架橋キトサンを用いる金属の選択的回収方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2006-044323   Applicant：株式会社みやざきTLO
• キトサン誘導体及びその製法並びに金属イオン吸着剤
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-012978   Applicant：株式会社キレスト技研

Article cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• キトサンを利用した選択性キレート樹脂の開発 廃水中の貴金属を選択的に回収するキトサン誘導体