Pat
J-GLOBAL ID:201003084180659337
パラメータ決定支援装置およびパラメータ決定支援プログラム
Inventor:
,
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (7):
深見 久郎
, 森田 俊雄
, 仲村 義平
, 堀井 豊
, 酒井 將行
, 荒川 伸夫
, 佐々木 眞人
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2009227389
Publication number (International publication number):2010191939
Application date: Sep. 30, 2009
Publication date: Sep. 02, 2010
Summary:
【課題】計測対象物体を撮像して得られる画像データに対して予め定められたパラメータの組を用いた処理を行うことで処理結果を得る処理装置に設定されるパラメータをより迅速かつ容易に決定できるパラメータ決定支援装置およびパラメータ決定支援プログラムを提供する。【解決手段】試行された複数のパラメータ候補の各々について、その判定結果および統計的出力が一覧表示されることで、ユーザは、最適なパラメータセットを容易に選択することができる。たとえば、誤検出数がゼロである試行番号「2」,「4」,「5」が安定した処理を行なうことのできるといえ、その中でも、試行番号「2」が最も処理時間が短くて済むので、総合的には、試行番号「2」のパラメータセットが最適であると言える。【選択図】図16
Claim (excerpt):
計測対象物体を撮像して得られる画像データに対して予め定められたパラメータの組を用いた処理を行うことで処理結果を得る画像処理装置のためのパラメータ決定支援装置であって、
前記画像データおよび当該画像データに対応付けられた期待結果を受付ける入力手段と、
前記パラメータの組に含まれる少なくとも1つのパラメータ値を互いに異ならせた複数のパラメータ候補を生成する候補生成手段と、
前記画像データに対して、前記複数のパラメータ候補のそれぞれを用いた複数の処理結果を取得する取得手段と、
前記複数の処理結果の各々を対応する前記期待結果と比較することで、前記複数の処理結果の各々についての評価結果を生成する評価手段と、
前記複数のパラメータ候補の別に、前記評価結果を出力する出力手段とを備える、パラメータ決定支援装置。
IPC (4):
G06T 1/00
, G01N 21/88
, G01B 11/24
, G01B 11/00
FI (4):
G06T1/00 300
, G01N21/88 J
, G01B11/24 K
, G01B11/00 H
F-Term (42):
2F065AA03
, 2F065AA51
, 2F065BB15
, 2F065EE00
, 2F065FF42
, 2F065JJ03
, 2F065JJ26
, 2F065NN11
, 2F065PP11
, 2F065QQ21
, 2F065QQ23
, 2F065QQ29
, 2F065QQ36
, 2F065QQ38
, 2F065QQ42
, 2F065QQ51
, 2F065RR05
, 2F065SS01
, 2F065SS03
, 2F065SS13
, 2G051AB02
, 2G051AC11
, 2G051CA03
, 2G051DA06
, 2G051EA12
, 2G051EA14
, 2G051ED01
, 2G051ED04
, 2G051ED21
, 5B057AA02
, 5B057DA03
, 5B057DA07
, 5B057DA08
, 5B057DA12
, 5B057DA13
, 5B057DB02
, 5B057DC03
, 5B057DC09
, 5B057DC17
, 5B057DC19
, 5B057DC34
, 5B057DC36
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
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画像処理装置、データ処理装置、パラメータ調整方法、およびプログラム
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2007-206694
Applicant:大日本スクリーン製造株式会社
-
画像分類方法及び画像分類装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2006-019378
Applicant:株式会社日立ハイテクノロジーズ
-
回路パターンの検査方法および検査装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-348951
Applicant:株式会社日立ハイテクノロジーズ
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