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J-GLOBAL ID：201003085973124953

位相差板の製造方法

Inventor： 奥山 健太郎 ,  小幡 慶 ,  星 光成 ,  鈴木 眞哉 ,  井上 純一 ,  栗山 晃人 ,  片倉 等 ,  清水 純
Applicant, Patent owner： ソニー株式会社
Agent (4)： 藤島 洋一郎 ,  三反崎 泰司 ,  長谷部 政男 ,  田名網 孝昭
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2009068706
Publication number (International publication number)：2010152296
Application date： Mar. 19, 2009
Publication date： Jul. 08, 2010
Summary：

【課題】簡易な工程で製造することができると共に、光利用効率の低下を抑制することが可能な位相差板を提供する。【解決手段】位相差板10は、溝領域11A,11Bがストライプ状に交互にパターニングされた基板11の表面に接して位相差層12が形成されたものである。溝領域11A,11Bはそれぞれ、方向d1,d2に延在する複数の溝111a,111bからなる。位相差層12は、溝領域11A,11Bに対応して位相差領域12a,12bを有し、位相差領域12a,12bではそれぞれ、溝の延在方向d1,d2に沿って液晶分子120が配向する。基板表面に位相差層が接していることにより、すなわち配向膜が形成されていないことにより、光損失の発生が抑制される。溝領域11A,11Bのパターンは、型を用いた転写により一括形成される。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

特定の方向に延在する複数の溝を表面に有する基板と、 前記基板の表面に接して設けられ、前記複数の溝の延在方向に沿って配向すると共に重合した液晶材料を含む位相差層と を備えた位相差板。

IPC (2)：

G02B 5/30 ,  G02F 1/133

FI (2)：

G02B5/30 ,  G02F1/13363

F-Term (40)：

2H149AA16 ,  2H149AB04 ,  2H149AB26 ,  2H149BA02 ,  2H149DA01 ,  2H149DA02 ,  2H149DA12 ,  2H149DB01 ,  2H149DB15 ,  2H149EA02 ,  2H149EA19 ,  2H149FA02Z ,  2H149FA05Z ,  2H149FA08Z ,  2H149FA24Y ,  2H149FA58Y ,  2H191FA22X ,  2H191FA22Z ,  2H191FA30X ,  2H191FA30Y ,  2H191FA82Z ,  2H191FA85Z ,  2H191FB02 ,  2H191FB05 ,  2H191FC22 ,  2H191FC26 ,  2H191FC32 ,  2H191FC33 ,  2H191FD04 ,  2H191FD12 ,  2H191FD16 ,  2H191HA11 ,  2H191LA31 ,  2H191MA01 ,  2H191NA14 ,  2H191PA03 ,  2H191PA06 ,  2H191PA59 ,  2H191PA62 ,  2H191PA85

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• セキュリティデバイスおよびその検証方法並びに印刷物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2006-284606   Applicant：凸版印刷株式会社
• パターン化されたパッシブ位相板の製造方法およびその方法により製造された位相板
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-354441   Applicant：シャープ株式会社
• 微細構造体の製造方法、露光方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2006-314812   Applicant：セイコーエプソン株式会社
• 波長板、立体画像表示装置、及び波長板の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2004-207239   Applicant：株式会社リコー