Pat
J-GLOBAL ID:201003087011554886

電解質膜、その製造方法、及びそれを含んでなる物品

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (3): 荒川 聡志 ,  小倉 博 ,  黒川 俊久
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2009157370
Publication number (International publication number):2010092839
Application date: Jul. 02, 2009
Publication date: Apr. 22, 2010
Summary:
【課題】機械的安定性及び熱安定性の向上したプロトン交換膜を提供する。【解決手段】ポリヒドロキシ化合物、芳香族ポリハライド化合物及びアルカリ金属水酸化物を含む混合物を形成する段階と、多孔質基材上に該混合物を配設する段階と、該混合物を反応させて架橋プロトン伝導体を生成する段階と、プロトン伝導体をスルホン化する段階とを含んでなる電解質膜の製造方法、及びその製造方法を用いた多孔質基材と、多孔質基材の細孔中に配設されたスルホン化架橋プロトン伝導体とを含んでなる物品。【選択図】なし
Claim (excerpt):
電解質膜の製造方法であって、 ポリヒドロキシ化合物、芳香族ポリハライド化合物及びアルカリ金属水酸化物を含む混合物を形成する段階と、 多孔質基材上に該混合物を配設する段階と、 該混合物を反応させて架橋プロトン伝導体を形成する段階と、 プロトン伝導体をスルホン化する段階と を含んでなる方法。
IPC (5):
H01B 13/00 ,  H01M 8/02 ,  H01B 1/06 ,  C08G 75/23 ,  C08J 9/42
FI (5):
H01B13/00 Z ,  H01M8/02 P ,  H01B1/06 A ,  C08G75/23 ,  C08J9/42
F-Term (22):
4F074AA39 ,  4F074CC02W ,  4F074CE04 ,  4F074CE16 ,  4F074CE43 ,  4F074CE93 ,  4F074DA49 ,  4F074DA59 ,  4J030BA09 ,  4J030BA49 ,  4J030BB66 ,  4J030BD03 ,  4J030BF13 ,  4J030BG05 ,  4J030BG23 ,  4J030BG34 ,  5G301CA30 ,  5G301CD01 ,  5H026AA06 ,  5H026CX05 ,  5H026EE18 ,  5H026EE19
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)

Return to Previous Page