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J-GLOBAL ID：201003088311138511

平滑筋細胞の増殖抑制材料

Inventor： 新田 祐樹 ,  中谷 達行 ,  岡本 圭司 ,  望月 明
Applicant, Patent owner： 学校法人東海大学 ,  トーヨーエイテック株式会社
Agent (10)： 前田 弘 ,  竹内 宏 ,  嶋田 高久 ,  竹内 祐二 ,  今江 克実 ,  二宮 克也 ,  原田 智雄 ,  井関 勝守 ,  関 啓 ,  杉浦 靖也
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2009137156
Publication number (International publication number)：2010280636
Application date： Jun. 08, 2009
Publication date： Dec. 16, 2010
Summary：

【課題】平滑筋細胞の増殖を抑制する材料を実現できるようにする。【解決手段】平滑筋細胞の増殖抑制材料は、基材の表面に形成されたダイヤモンド様炭素膜を備えている。ダイヤモンド様炭素膜の表面にはカルボキシル基が導入されており、カルボキシル基の導入率は、3.5%以下である。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

基材の表面に形成されたダイヤモンド様炭素膜と、 前記ダイヤモンド様炭素膜の表面に導入されたカルボキシル基とを備え、 前記カルボキシル基の導入率は、3.5%以下であることを特徴とする平滑筋細胞の増殖抑制材料。

IPC (4)：

A61K 33/44 ,  A61L 31/00 ,  A61K 31/19 ,  A61P 43/00

FI (4)：

A61K33/44 ,  A61L31/00 Z ,  A61K31/19 ,  A61P43/00 105

F-Term (22)：

4C081AC09 ,  4C081BA17 ,  4C081CF161 ,  4C081CF162 ,  4C081DA03 ,  4C081DC03 ,  4C086AA01 ,  4C086AA02 ,  4C086GA15 ,  4C086HA06 ,  4C086MA02 ,  4C086MA04 ,  4C086NA14 ,  4C086ZB21 ,  4C206AA01 ,  4C206AA02 ,  4C206DA34 ,  4C206KA01 ,  4C206MA02 ,  4C206MA04 ,  4C206NA14 ,  4C206ZB21

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 生体留置用ステント
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-122380   Applicant：テルモ株式会社, 島田厚
• 医療用器具及び医療用器具への硬質被膜形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2004-181929   Applicant：シチズン時計株式会社
• ダイヤモンド様コーティングを有するステント
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2000-551826   Applicant：ナムローゼ・フェンノートシャップ・ベーカート・ソシエテ・アノニム