Pat
J-GLOBAL ID:201003089264914393
成膜方法および半導体装置の製造方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (3):
宮崎 昭夫
, 石橋 政幸
, 緒方 雅昭
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2009102066
Publication number (International publication number):2010251654
Application date: Apr. 20, 2009
Publication date: Nov. 04, 2010
Summary:
【課題】誘電率が低くかつエッチング耐性に優れた窒化シリコン系絶縁膜を形成する。【解決手段】基材上にシラン系ガス(DCS)、窒化性ガス(NH3)及びホウ素含有ガス(BCl3)を、N2パージを逐次行いながらこの順で供給してホウ素含有窒化シリコン層を形成する工程と、このホウ素含有窒化シリコン層に、プラズマにより活性化された窒化性ガス(活性化NH3)を供給する工程とを含み、これらの工程をこの順で繰り返し行う成膜方法。【選択図】図4
Claim (excerpt):
基材上にシラン系ガス、窒化性ガス及びホウ素含有ガスをこの順で供給してホウ素含有窒化シリコン層を形成する工程と、該ホウ素含有窒化シリコン層に、プラズマにより活性化された窒化性ガスを供給する工程とを含み、これらの工程をこの順で繰り返し行う成膜方法。
IPC (9):
H01L 21/31
, H01L 21/314
, H01L 21/318
, C23C 16/42
, C23C 16/505
, H01L 21/824
, H01L 27/108
, H01L 21/205
, H01L 21/768
FI (9):
H01L21/31 C
, H01L21/314 A
, H01L21/318 B
, C23C16/42
, C23C16/505
, H01L27/10 621C
, H01L27/10 681B
, H01L21/205
, H01L21/90 P
F-Term (119):
4K030AA03
, 4K030AA06
, 4K030AA13
, 4K030BA26
, 4K030BA29
, 4K030BA38
, 4K030CA04
, 4K030CA12
, 4K030DA02
, 4K030DA03
, 4K030EA06
, 4K030FA01
, 4K030FA10
, 4K030GA04
, 4K030HA01
, 4K030HA04
, 4K030KA04
, 4K030LA15
, 5F033HH04
, 5F033HH19
, 5F033HH28
, 5F033JJ04
, 5F033JJ18
, 5F033JJ19
, 5F033JJ33
, 5F033KK01
, 5F033KK04
, 5F033LL04
, 5F033MM05
, 5F033NN06
, 5F033NN07
, 5F033NN32
, 5F033PP06
, 5F033QQ08
, 5F033QQ12
, 5F033QQ28
, 5F033QQ31
, 5F033QQ37
, 5F033QQ48
, 5F033QQ90
, 5F033QQ91
, 5F033RR04
, 5F033RR06
, 5F033RR12
, 5F033SS02
, 5F033SS13
, 5F033SS15
, 5F033TT02
, 5F033TT08
, 5F033VV06
, 5F033VV16
, 5F033XX10
, 5F033XX24
, 5F045AA08
, 5F045AA15
, 5F045AB31
, 5F045AC01
, 5F045AC02
, 5F045AC05
, 5F045AC12
, 5F045AD07
, 5F045AD08
, 5F045AD09
, 5F045AD10
, 5F045AD11
, 5F045AD12
, 5F045AE19
, 5F045AE21
, 5F045AE23
, 5F045AF01
, 5F045AF10
, 5F045BB14
, 5F045BB16
, 5F045BB17
, 5F045CA05
, 5F045CB05
, 5F045DC57
, 5F045DC63
, 5F045DC66
, 5F045DP19
, 5F045DQ05
, 5F045EE19
, 5F045EF03
, 5F045EF08
, 5F045EH18
, 5F045EK06
, 5F058BA08
, 5F058BB10
, 5F058BC08
, 5F058BC10
, 5F058BD10
, 5F058BD13
, 5F058BF04
, 5F058BF07
, 5F058BF23
, 5F058BF24
, 5F058BF30
, 5F058BF32
, 5F058BF37
, 5F058BG01
, 5F058BJ02
, 5F083AD24
, 5F083AD48
, 5F083AD49
, 5F083GA02
, 5F083JA02
, 5F083JA06
, 5F083JA35
, 5F083JA39
, 5F083JA40
, 5F083JA53
, 5F083JA56
, 5F083KA05
, 5F083MA03
, 5F083MA06
, 5F083MA17
, 5F083MA20
, 5F083NA01
, 5F083PR21
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