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J-GLOBAL ID:201003093097848259

細胞培養基板、その製造方法、細胞培養方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (3): 平木 祐輔 ,  関谷 三男 ,  渡辺 敏章
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2008239786
Publication number (International publication number):2010068755
Application date: Sep. 18, 2008
Publication date: Apr. 02, 2010
Summary:
【課題】透明フッ素系樹脂基板に簡便な表面処理を施すことによって細胞培養に適した培養基板を得る。【解決手段】屈折率1.33以上1.34以下の可視光領域において透明なフッ素系樹脂基板21を酸素を含有しない雰囲気中に保持し、基板表面にF2レーザーのレーザー光をアブレーション閾値以下のレーザーフルエンスで照射して親水性を付与する。【選択図】図2
Claim (excerpt):
可視光領域において透明な屈折率1.33以上1.34以下のフッ素系樹脂からなり、 レーザーフルエンスがアブレーション閾値以下の紫外線レーザー照射によって、表面に親水性領域が形成されたことを特徴とする細胞培養基板。
IPC (2):
C12M 3/00 ,  C12N 5/07
FI (2):
C12M3/00 A ,  C12N5/00 E
F-Term (12):
4B029AA02 ,  4B029AA08 ,  4B029AA21 ,  4B029BB11 ,  4B029CC02 ,  4B029CC08 ,  4B029FA01 ,  4B029GB06 ,  4B029GB09 ,  4B065AA90X ,  4B065BC41 ,  4B065CA46
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1) Cited by examiner (1)
Article cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
  • 応用物理学会学術講演会講演予稿集,Vol.69th,No.3,p.1165,2008年9月2日発行

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