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J-GLOBAL ID：201003093932586627

ポリフェニルアセチレン膜の芳香環形成による超分子自立膜の製造方法

Inventor： 青木 俊樹 ,  浪越 毅 ,  波多野 慎悟 ,  エディ マルワンタ ,  寺口 昌宏 ,  金子 隆司 ,  鬼山 祥幸
Applicant, Patent owner： 国立大学法人 新潟大学
Agent (3)： 牛木 護 ,  吉田 正義 ,  清水 栄松
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2009038313
Publication number (International publication number)：2010189365
Application date： Feb. 20, 2009
Publication date： Sep. 02, 2010
Summary：

【課題】反応速度が速く、完全に芳香環生成物のみからなる超分子自立膜を製造することのできる、ポリフェニルアセチレン膜の芳香環形成による超分子自立膜の製造方法を提供する。【解決手段】ポリフェニルアセチレン膜に蛍光灯による可視光を照射した。ポリフェニルアセチレン膜としては、ポリ(4-ドデシルオキシ-3,5-ビス(ヒドロキシメチル)フェニルアセチレン)膜、ポリ(4-[4-(フェニルエチニル)ベンジルオキシ]-3,5-ビス(ヒドロキシメチル)フェニルアセチレン)膜、ポリ(4-[4-(ドデシルオキシ)ベンジルオキシ]-3,5-ビス(ヒドロキシメチル)フェニルアセチレン)膜のいずれかが好適である。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

ポリフェニルアセチレン膜に蛍光灯による可視光を照射することを特徴とするポリフェニルアセチレン膜の芳香環形成による超分子自立膜の製造方法。

IPC (4)：

C07C 41/30 ,  C08F 38/02 ,  C08F 8/48 ,  C07C 43/23

FI (4)：

C07C41/30 ,  C08F38/02 ,  C08F8/48 ,  C07C43/23 D

F-Term (20)：

4H006AA02 ,  4H006AC28 ,  4H006BA24 ,  4H006BA44 ,  4H006GP03 ,  4H006GP10 ,  4H039CA41 ,  4H039CH30 ,  4J100AT05P ,  4J100AT13P ,  4J100BA02P ,  4J100BA03P ,  4J100BA04P ,  4J100BC43P ,  4J100CA01 ,  4J100FA03 ,  4J100FA19 ,  4J100GC35 ,  4J100HA40 ,  4J100JA00