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J-GLOBAL ID:201003097852322837
金属成形プロセスにおける摩擦を低減するためのマイクロ多孔性層
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (4):
平木 祐輔
, 石井 貞次
, 藤田 節
, 新井 栄一
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2010512520
Publication number (International publication number):2010530475
Application date: Jun. 20, 2008
Publication date: Sep. 09, 2010
Summary:
本発明は、金属成形プロセスで使用されてより少ない摩擦およびかじりに対する改良された耐性を提供するマイクロ多孔性層である。この層は、金属基材上に電気化学的に堆積され、その後、堆積された膜の金属のうちの1種が化学的エッチングにより選択的に除去され、それにより、基材の表面上にマイクロ多孔性層またはナノ多孔性層さえも残して潤滑剤の閉込めを促進し、金属成形プロセス時における改良された潤滑をもたらす薄い多孔性金属膜である。【選択図】 図3
Claim (excerpt):
金属成形プロセスにおける摩擦を低減するためのマイクロ多孔性層を金属基材上に作製する方法であって、該層が、
金属基材の表面上に電気化学的に堆積された薄い金属膜であり、かつ
その細孔内に潤滑剤膜を取込み可能であり、
以下の工程、すなわち、
(1)固溶体ではなく微粒子の混合物よりなる薄い金属膜を提供しうる2つ以上の相でそれぞれ構成される1種以上の合金を選択する工程、
(2)金属基材上に合金を電気化学的に堆積する工程、および
(3)化学的または電気化学的なエッチングにより金属または相のうちの1つを選択的に除去する工程、
を行って、基材表面上にマイクロ多孔性層を残し、それにより、該金属成形に理想的な表面を提供する、上記方法。
IPC (4):
C23F 1/00
, B21J 3/00
, C23F 1/44
, C25D 5/48
FI (4):
C23F1/00 Z
, B21J3/00
, C23F1/44
, C25D5/48
F-Term (26):
4E087CA31
, 4E087CB07
, 4E087CB10
, 4K024AA15
, 4K024AB19
, 4K024BB01
, 4K024BB04
, 4K024BC10
, 4K024CA01
, 4K024CA04
, 4K024CA06
, 4K024DB10
, 4K024GA16
, 4K057WA05
, 4K057WA13
, 4K057WB01
, 4K057WB07
, 4K057WB11
, 4K057WC03
, 4K057WE01
, 4K057WE08
, 4K057WE11
, 4K057WG02
, 4K057WG03
, 4K057WJ03
, 4K057WN06
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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ガスコック
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-154664
Applicant:日立金属株式会社
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特開昭48-084044
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特開昭57-109242
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特公昭57-057957
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電気接点用の接点表面および形成方法
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2006-516115
Applicant:ローベルトボッシュゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツング
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