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J-GLOBAL ID：201003099838757602

現像剤及び画像形成方法

Inventor：
倉増 浩二

About 倉増 浩二


Applicant, Patent owner：
京セラミタ株式会社

About 京セラミタ株式会社


Agent (1)： 江森 健二
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008319408
Publication number (International publication number)：2010145467
Application date： Dec. 16, 2008
Publication date： Jul. 01, 2010
Summary：
【課題】長時間連続して低濃度印字を行った場合であっても、感光体に対する樹脂微粒子の付着を効果的に抑制することができるとともに、現像剤の摩擦帯電性を効果的に保持することができる現像剤及びそれを用いた画像形成方法を提供する。【解決手段】トナー粒子と、外添剤としての樹脂微粒子と、外添剤としての第1及び第2のシリカ微粒子と、を含む現像剤及びそれを用いた画像形成方法であって、第1のシリカ微粒子の数平均粒子径をAd(nm)、第1のシリカ微粒子のトナー粒子に対する被覆率をAc(%)、第2のシリカ微粒子の数平均一次粒子径をBd(nm)、第2のシリカ微粒子のトナー粒子に対する被覆率をBc(%)、樹脂微粒子の数平均一次粒子径をCd(nm)、樹脂微粒子のトナー粒子に対する被覆率をCc(%)、とした場合に、Ad、Ac、Bd、Bc、Cd及びCcが、下記関係式(1)等を満足する。16≦Ad≦35nm (1)【選択図】図1
Claim (excerpt)：
トナー粒子と、外添剤としての樹脂微粒子と、外添剤としての第1及び第2のシリカ微粒子と、を含む現像剤であって、 前記第1のシリカ微粒子の数平均一次粒子径をAd(nm)、 前記第1のシリカ微粒子の前記トナー粒子に対する被覆率をAc(%)、 前記第2のシリカ微粒子の数平均一次粒子径をBd(nm)、 前記第2のシリカ微粒子の前記トナー粒子に対する被覆率をBc(%)、 前記樹脂微粒子の数平均一次粒子径をCd(nm)、 前記樹脂微粒子の前記トナー粒子に対する被覆率をCc(%)、 とした場合に、前記Ad、Ac、Bd、Bc、Cd及びCcが、下記関係式(1)〜(5)を満足することを特徴とする現像剤。 16≦Ad≦35nm (1) Bd≧70nm (2) Cd≧40nm (3) 1≦Cc≦Ac (4) 1≦Cc≦Bc (5)
IPC (3)：
G03G 9/08 ,  G03G 9/10 ,  G03G 5/08
FI (5)：
G03G9/08 375 ,  G03G9/08 372 ,  G03G9/08 374 ,  G03G9/10 ,  G03G5/08 105
F-Term (10)：
2H005AA08 ,  2H005BA02 ,  2H005CA03 ,  2H005CA28 ,  2H005CB04 ,  2H005CB07 ,  2H005CB13 ,  2H005EA05 ,  2H005EA10 ,  2H068DA00
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (9)
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Cited by examiner (7)
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