Art

J-GLOBAL ID：201102147948097398   Reference number：11A0084060

Room-temperature epitaxial growth of NiO(111) thin films by pulsed laser deposition

パルスレーザー蒸着による、NiO(111)薄膜の室温エピタキシャル成長

Author (4)： KAKEHI Y ,  NAKAO S ,  SATOH K ,  KUSAKA T
Material： JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH
Volume： 237  Page： 591-595  Publication year： 2002 
JST Material Number： O3553A  ISSN： 0022-0248  Document type： Article
Country of issue： Other (ZZZ)  Language： ENGLISH (EN)

Terms in the title (4)： パルスレーザー蒸着 ,  薄膜 ,  室温 ,  エピタキシャル成長