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J-GLOBAL ID：201102202691408800   Reference number：11A1349876

Innovation of semiconductor factory by creating minimal fab

工業用クリーンルームの最新動向 ミニマルファブによる半導体工場イノベーション

Author (8)： HARA SHIRO (産業技術総合研) ,  MAEKAWA HITOSHI (産業技術総合研) ,  IKEDA SHIN'ICHI (産業技術総合研) ,  KHUMPUANG Sommawan (産業技術総合研) ,  YOSHIDA TOMOYA (産業技術総合研) ,  NAGAO MASAYOSHI (産業技術総合研) ,  NAKANO SHIZUKA (産業技術総合研) ,  OGISO HISATO (産業技術総合研)
Material： 空気清浄  (コンタミネーションコントロール)
Volume： 49  Issue： 2  Page： 8-15  Publication year： Jul. 31, 2011 
JST Material Number： G0779A  ISSN： 0023-5032  CODEN： KUSEBF  Document type： Article
Article type： 解説  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *semiconductor industry ,  equipment ,  mass production ,  *job shop type production ,  small scale ,  improvement ,  production management
Semi thesaurus term： production innovation ,  semiconductor manufacturing equipment

JST classification (1)： Semiconductor integrated circuit  (NC03162T)

Reference (4)：

• トップ記事「半導体設備 投資1/100」. 日本経済新聞. 2010, 5月19日, 1面
• 原史朗. ミニマルマニュファクチャリングと局所クリーン化生産システム. 空気清浄. 2006, 44, 4, 6
• 原史朗. 局所クリーン化の世界. 2006
• EPS : Encapsulated Production System : 局所クリーン化生産方式

Terms in the title (6)： 工業 ,  クリーンルーム ,  最新動向 ,  ミニマルファブ ,  半導体工場 ,  イノベーション