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J-GLOBAL ID：201102206221078141   Reference number：11A1454690

Substrate Cleaning using Ultrasonics/Megasonics

超音波/メガソニックを用いた基板洗浄

Author (3)： KAZEMI Mohammad (Xyratex International Inc, California) ,  TREICHEL Helmuth (Xyratex International Inc, California) ,  LIGUTOM Rito (Xyratex International Inc, California)
Material： IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop  (Annual SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference)
Volume： 22nd  Page： 146-151  Publication year： 2011 
JST Material Number： W0718A  ISSN： 1078-8743  Document type： Proceedings
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *ultrasonic cleaning ,  *substrate (plate) ,  van der Waals force ,  *cavitation ,  oscillating flow ,  adhesion force ,  *removal ,  *fine particle ,  acoustic cavitation ,  acoustic streaming ,  debonding force

JST classification (1)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Terms in the title (2)： 超音波 ,  基板洗浄