Art

J-GLOBAL ID：201102227063171934   Reference number：11A1620350

Preparation of high purity metals for advanced devices

先端デバイスのための高純度金属の調製

Author (3)： ISSHIKI Minoru ,  MIMURA Kouji ,  UCHIKOSHI Masahito
Material： Thin Solid Films
Volume： 519  Issue： 24  Page： 8451-8455  Publication year： Oct. 03, 2011 
JST Material Number： B0899A  ISSN： 0040-6090  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Netherlands (NLD)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *purity ,  *metal ,  *impurity ,  purification ,  Iron ,  anion exchange ,  plasma arc melting ,  mass spectrometry ,  zone refining ,  silicide ,  iron compound ,  Hydrochloric Acid ,  chloride ,  *high purity metal ,  iron silicide ,  glow discharge mass spectrometry
Semi thesaurus term： GDMS(surface analysis)

JST classification (1)： Refining  (WD02040L)

Terms in the title (2)： 高純度金属 ,  調製