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J-GLOBAL ID：201102227742846967   Reference number：11A0145681

Photoresist Templates for Wafer-Scale Defect-Free Evaporative Lithography

ウエハ規模の無欠陥蒸発リソグラフィー用フォトレジストテンプレート

Author (3)： TANG Xiaosong (Inst. Materials Res. and Engineering, Singapore) ,  O'SHEA Sean J. (Inst. Materials Res. and Engineering, Singapore) ,  VAKARELSKI Ivan U. (Inst. Chemical and Engineering Sci., Singapore)
Material： Advanced Materials  (Adv Mater (Deerfield, Fla.))
Volume： 22  Issue： 45  Page： 5150-5153  Publication year： Dec. 01, 2010 
JST Material Number： W0001A  ISSN： 0935-9648  CODEN： ADVMEW  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： Germany, Federal Republic of (DEU)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *lithography ,  *nano particle ,  photoresist ,  polyvinylpyrrolidone ,  sol ,  evaporation ,  column ,  structural arch ,  *transparent conducting thin films ,  aliphatic alcohol ,  inorganic acid ester ,  *gold nanoparticle ,  photoresist SU-8 ,  solid (cubic)
Semi thesaurus term： SU-8 ,  colloidal solution ,  pillar

JST classification (3)： Colloid chemistry in general  (CB11010C) ,  Solid-liquid interface  (CB12050B) ,  Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Substance index (1)： Dodecyl sodium sulfate

Terms in the title (7)： ウエハ ,  規模 ,  欠陥 ,  蒸発 ,  リソグラフィー ,  フォトレジスト ,  テンプレート