Art

J-GLOBAL ID：201102229480020283   Reference number：11A0279433

Determination of silicon self-interstitial diffusivity using isotopically pure (30)silicon multi-layer

高純度単一同位体(30)ケイ素多層を用いたケイ素自己格子間拡散の定量

Author (7)： SETO S ,  SAKAGUCHI T ,  NAKABAYASHI Y ,  MATSUMOTO S ,  MUROTA J ,  WADA K ,  ABE T
Material： MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING B-SOLID STATE MATERIALS FOR ADVANCED TECHNOLOGY
Volume： 114-15  Page： 334-338  Publication year： 2004 
JST Material Number： O4522A  ISSN： 0921-5107  Document type： Article
Country of issue： Other (ZZZ)  Language： ENGLISH (EN)

Terms in the title (8)： 高純度 ,  同位体 ,  ケイ素 ,  多層 ,  自己 ,  格子 ,  拡散 ,  定量