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J-GLOBAL ID：201102239638213349   Reference number：10A1692954

The effects of chemical etching of porous silicon on Raman spectra

Ramanスペクトル上の多孔質シリコンの化学エッチングの効果

Author (4)： OHMUKAI M ,  UEHARA N ,  YMASAKI T ,  TSUTSUMI Y
Material： CZECHOSLOVAK JOURNAL OF PHYSICS
Volume： 54  Issue： 7  Page： 781-784  Publication year： 2004 
JST Material Number： O1770A  ISSN： 0011-4626  Document type： Article
Country of issue： Other (ZZZ)  Language： ENGLISH (EN)

Terms in the title (3)： Ramanスペクトル ,  多孔質シリコン ,  化学エッチング