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J-GLOBAL ID：201102256202569468   Reference number：11A0437798

Improvement of ZnO TCO film growth for photovoltaic devices by reactive plasma deposition (RPD)

反応性プラズマ蒸着(RPD)による光電変換素子用ZnO TCO膜の膜成長の改善

Author (12)： IWATA K ,  SAKEMI T ,  YAMADA A ,  FONS P ,  AWAI K ,  YAMAMOTO T ,  SHIRAKATA S ,  MATSUBARA K ,  TAMPO H ,  SAKURAI K ,  ISHIZUKA S ,  NIKI S
Material： THIN SOLID FILMS
Volume： 480  Page： 199-203  Publication year： 2005 
JST Material Number： O6387A  ISSN： 0040-6090  Document type： Article
Country of issue： Other (ZZZ)  Language： ENGLISH (EN)

Terms in the title (5)： 反応性プラズマ蒸着 ,  光電変換素子 ,  ZnO ,  TCO ,  膜成長