Art

J-GLOBAL ID：201102262163536522   Reference number：11A0436857

High-rate growth of microcrystalline silicon films using a high-density SiH4/H-2 glow-discharge plasma

高密度SiH4/H-2グロー放電プラズマを用いることによる微結晶シリコン膜の成長速度の促進

Author (5)： NIIKURA C ,  ITAGAKI N ,  KONDO M ,  KAWAI Y ,  MATSUDA A
Material： THIN SOLID FILMS
Volume： 457  Issue： 1  Page： 84-89  Publication year： 2004 
JST Material Number： O6387A  ISSN： 0040-6090  Document type： Article
Country of issue： Other (ZZZ)  Language： ENGLISH (EN)

Terms in the title (6)： SiH4 ,  グロー放電プラズマ ,  微結晶 ,  シリコン膜 ,  成長速度 ,  促進