Art

J-GLOBAL ID：201102262887178733   Reference number：11A0309395

Nano-dot and -pit arrays with a pitch of 25 nm x 25 nm fabricated by EB drawing, RIE and nano-imprinting for 1 Tb/in(2) storage

EB図面、RIE及び1つのTb/in(2)記憶域のためのナノ・インプリンティングにより組み立てられる25ナノメートル×25ナノメートルのナノドット並びに列ピッチ

Author (7)： HOSAKA S ,  MOHAMAD Z ,  SHIRAI M ,  SANO H ,  YIN Y ,  MIYACHI A ,  SONE H
Material： MICROELECTRONIC ENGINEERING
Volume： 85  Issue： 5-6  Page： 774-777  Publication year： 2008 
JST Material Number： O4682A  ISSN： 0167-9317  Document type： Article
Country of issue： Other (ZZZ)  Language： ENGLISH (EN)

Terms in the title (8)： EB ,  図面 ,  RIE ,  Tb ,  記憶域 ,  インプリンティング ,  メートル ,  ナノドット