Art

J-GLOBAL ID：201102265384142846   Reference number：11A0309247

Advantages of HfAlON gate dielectric film for advanced low power CMOS application

最新低電力CMOS応用のためのHfAlONゲート誘電体膜の利点

Author (10)： TORIUMI A ,  IWAMOTO K ,  OTA H ,  KADOSHIMA M ,  MIZUBAYASHI W ,  NABATAME T ,  OGAWA A ,  TOMINAGA K ,  HORIKAWA T ,  SATAKE H
Material： MICROELECTRONIC ENGINEERING
Volume： 80  Page： 190-197  Publication year： 2005 
JST Material Number： O4682A  ISSN： 0167-9317  Document type： Article
Country of issue： Other (ZZZ)  Language： ENGLISH (EN)

Terms in the title (6)： 低電力 ,  CMOS ,  応用 ,  ゲート ,  誘電体膜 ,  利点