Art

J-GLOBAL ID：201102277108175127   Reference number：11A0437424

Enhanced Si and B diffusion in semiconductor-grade SiO2 and the effect of strain on diffusion

半導体級のSiO2における強化されたSiおよびBの拡散と、拡散に関する歪みの効果

Author (7)： UEMATSU M ,  KAGESHIMA H ,  FUKATSU S ,  ITOH KM ,  SHIRAISHL K ,  OTANI M ,  OSHIYAMA A
Material： THIN SOLID FILMS
Volume： 508  Issue： 1-2  Page： 270-275  Publication year： 2006 
JST Material Number： O6387A  ISSN： 0040-6090  Document type： Article
Country of issue： Other (ZZZ)  Language： ENGLISH (EN)

Terms in the title (5)： SiO2 ,  強化 ,  Si ,  拡散 ,  歪み