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J-GLOBAL ID：201102298166505754   Reference number：10A1724781

High-density microwave plasma of SiH4/H-2 for high rate growth of highly crystallized microcrystalline silicon films

高度に結晶化する微晶質シリコン膜の高率成長のための、SiH4/H-2の高密度マイクロ波プラズマ

Author (4)： JIA H ,  SAHA JK ,  OHSE N ,  SHIRAI H
Material： EUROPEAN PHYSICAL JOURNAL-APPLIED PHYSICS
Volume： 33  Issue： 3  Page： 153-159  Publication year： 2006 
JST Material Number： O2204A  ISSN： 1286-0042  Document type： Article
Country of issue： Other (ZZZ)  Language： ENGLISH (EN)

Terms in the title (6)： 結晶化 ,  シリコン膜 ,  成長 ,  SiH4 ,  高密度 ,  マイクロ波プラズマ