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J-GLOBAL ID：201103000188514034
フラーレンデバイスの製造方法、およびフラーレンデバイス
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (5)：
中村 智廣
, 成瀬 勝夫
, 小泉 雅裕
, 青谷 一雄
, 鳥野 正司
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2003054366
Publication number (International publication number)：2004263241
Patent number：4241094
Application date： Feb. 28, 2003
Publication date： Sep. 24, 2004
Claim (excerpt)：
【請求項1】 基板上の所定の位置に、少なくともチタンを含む金属膜の縁端部、または、フタロシアニン分子からなるテンプレートを配置し、該テンプレートに対してフラーレン分子を蒸着させることで、前記所定の位置に選択的にフラーレン分子を付着させることを特徴とするフラーレンデバイスの製造方法。
IPC (4)：
C01B 31/02 ( 200 6.01)
, C23C 14/12 ( 200 6.01)
, C23C 14/04 ( 200 6.01)
, H01L 29/786 ( 200 6.01)
C01B 31/02 101 F
, C23C 14/12
, C23C 14/04 Z
, H01L 29/78 618 B
