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J-GLOBAL ID：201103009152360216

摺動材及びその表面加工方法

Inventor： 千徳 英介 ,  岩井 善郎 ,  本田 知己 ,  宮島 敏郎 ,  峠 正範 ,  木内 淳介 ,  田中 隆三 ,  松井 多志
Applicant, Patent owner： 独立行政法人科学技術振興機構 ,  国立大学法人福井大学 ,  アイテック株式会社 ,  株式会社松浦機械製作所 ,  福井県
Agent (1)： 川崎 好昭
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2010034316
Publication number (International publication number)：2011168845
Application date： Feb. 19, 2010
Publication date： Sep. 01, 2011
Summary：

【課題】本発明は、摺動面に形成したDLC膜に当該DLC膜よりも低硬度の改質層を形成してトライボロジー特性を改善した摺動材及びその表面加工方法を提供することを目的とするものである。【解決手段】パルスレーザシステム1からフェムト秒レーザを発射して3軸ステージ7に設置された摺動材Mの摺動面に照射する。摺動材Mの摺動面には予めDLC膜が形成されており、レーザパルスの照射によりDLC膜よりも硬度の低い改質層が形成される。改質層の硬度及び層厚は、照射するレーザパルスのフルーエンスにより調整することができ、被摺動面の硬度や表面状態に合わせて摩耗量が少なくなるように改質層を形成することが可能となる。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

摺動面に形成されたDLC膜にパルスレーザを照射して、表面にいくに従い硬度が低減するとともに前記DLC膜よりも硬度が低い改質層を形成することを特徴とする摺動材の表面加工方法。

IPC (2)：

C23C 26/00 ,  F16C 33/24

FI (2)：

C23C26/00 E ,  F16C33/24 Z

F-Term (12)：

3J011DA01 ,  3J011QA04 ,  3J011SE10 ,  4K044AA02 ,  4K044AB10 ,  4K044BA18 ,  4K044BB01 ,  4K044BC01 ,  4K044BC06 ,  4K044CA13 ,  4K044CA41 ,  4K044CA44

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 摺動材及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2005-357064   Applicant：独立行政法人科学技術振興機構, アイテック株式会社