Pat
J-GLOBAL ID：201103010284094467

撮像装置

Inventor：
川上 智朗

About 川上 智朗


Applicant, Patent owner：
キヤノン株式会社

About キヤノン株式会社


Agent (1)： 高梨 幸雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2010121752
Publication number (International publication number)：2011248123
Application date： May. 27, 2010
Publication date： Dec. 08, 2011
Summary：
【課題】複数の撮像素子を配置して画像を取得し観察する際、撮像素子間の非撮像領域で反射・散乱した有害光による画質の低下を抑制しつつ、高速で広画面の画像を取得することができる撮像装置を得る。【解決手段】光源手段10と、前記光源手段からの光を被照射面30に導く照明光学系20と、被照射面に観察用の対象物32を載置する標本ステージ31と、該被照射面上の対称物を結像するための撮像光学系40と、該撮像光学系の像面に複数の撮像素子53を配置した撮像素子部50と、前記撮像素子部の複数の撮像素子が配置されていない領域に光束が入射するのを軽減する遮光手段を有する。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
光源手段と、前記光源手段からの光を被照射面に導く照明光学系と、該被照射面に対象物を載置する標本ステージと、該被照射面に載置された対象物の像を結像するための撮像光学系と、該撮像光学系の像面に複数の撮像素子を配置した撮像素子部と、前記撮像素子部の複数の撮像素子が配置されていない領域への光束の入射を軽減する遮光手段と、を有することを特徴とする撮像装置。
IPC (4)：
G02B 21/00 ,  G02B 7/02 ,  G02B 5/00 ,  H04N 5/225
FI (6)：
G02B21/00 ,  G02B7/02 D ,  G02B5/00 B ,  H04N5/225 F ,  H04N5/225 C ,  H04N5/225 D
F-Term (15)：
2H042AA09 ,  2H042AA15 ,  2H042AA21 ,  2H044AD01 ,  2H052AB30 ,  2H052AC05 ,  2H052AC29 ,  2H052AF14 ,  2H052AF21 ,  2H052AF25 ,  5C122DA12 ,  5C122DA30 ,  5C122EA22 ,  5C122FA18 ,  5C122FB02
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (7)
  • 顕微鏡システム
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2007-229250   Applicant：株式会社ニコン
  • 顕微鏡、画像取得システム
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2007-161551   Applicant：株式会社ニコン
  • 顕微鏡
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-382340   Applicant：株式会社ニコン
Show all
Cited by examiner (7)
  • 顕微鏡装置、及び観察方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2007-177215   Applicant：株式会社ニコン
  • 顕微鏡システム
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2007-229250   Applicant：株式会社ニコン
  • 顕微鏡、画像取得システム
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2007-161551   Applicant：株式会社ニコン
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM