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J-GLOBAL ID：201103010499843070

ポリ(ジスルフィド)及びその製造方法

Inventor： 落合 雅美 ,  高橋 敦之 ,  西久保 忠臣 ,  工藤 宏人
Applicant, Patent owner： 日立化成工業株式会社 ,  学校法人神奈川大学
Agent (3)： 渡辺 喜平 ,  田中 有子 ,  佐藤 猛
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2009163706
Publication number (International publication number)：2011016954
Application date： Jul. 10, 2009
Publication date： Jan. 27, 2011
Summary：

【課題】光学材料等に好適な、高屈折率で溶媒に可溶であるポリ(ジスルフィド)、及びその製造方法を提供する。【解決手段】下記式(1)で示される可溶性のポリ(ジスルフィド)。[式(1)中、R1〜R4は各々独立に、水素原子又は炭素数1〜20の有機基であり、R5及びR6は各々独立に水素原子、又は式(2)で示される基である。nは重合度であり2以上の整数である。 式(2)中、R7〜R11は、各々独立に水素原子又は炭素数1〜20の有機基である。]【選択図】なし

Claim (excerpt)：

下記式(1)で示される可溶性のポリ(ジスルフィド)。

IPC (4)：

C08G 75/14 ,  C08J 5/18 ,  G02C 7/00 ,  G02B 1/04

FI (4)：

C08G75/14 ,  C08J5/18 ,  G02C7/00 ,  G02B1/04

F-Term (12)：

2H006BA01 ,  4F071AA63 ,  4F071AF31Y ,  4F071AH19 ,  4F071BA02 ,  4F071BB02 ,  4F071BC01 ,  4J030BA05 ,  4J030BB06 ,  4J030BC37 ,  4J030BF19 ,  4J030BG25