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J-GLOBAL ID：201103015256835569

薄膜型光吸収膜

Inventor： 布山 美慕 ,  井上 恭明
Applicant, Patent owner： ナルックス株式会社
Agent (1)： 伏見 直哉
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2010047068
Publication number (International publication number)：2011180532
Application date： Mar. 03, 2010
Publication date： Sep. 15, 2011
Summary：

【課題】光を吸収する薄膜の多層膜からなる薄膜型光吸収膜であって、高温環境下または高湿環境下において使用しても光吸収特性が劣化せず、簡単な製造プロセスによって製造すること。【解決手段】薄膜型光吸収膜は、基板(101)上に形成された多層膜からなる薄膜型光吸収膜であって、該多層膜は、四酸化三鉄からなる酸化鉄層(103)と、誘電体からなる誘電体層(105)と、を含み、該酸化鉄層の厚さは、100ナノメータ以上で、該酸化鉄層及び該誘電体層が、反射防止層を形成している。【選択図】図6

Claim (excerpt)：

基板上に形成された多層膜からなる薄膜型光吸収膜であって、該多層膜は、四酸化三鉄からなる酸化鉄層と、誘電体からなる誘電体層と、を含み、該酸化鉄層の厚さは、100ナノメータ以上で、該酸化鉄層及び該誘電体層が、反射防止層を形成する薄膜型光吸収膜。

IPC (4)：

G02B 5/22 ,  G02B 1/11 ,  B32B 9/00 ,  B32B 7/02

FI (4)：

G02B5/22 ,  G02B1/10 A ,  B32B9/00 A ,  B32B7/02 103

F-Term (25)：

2H048CA05 ,  2H048CA09 ,  2H048CA13 ,  2H048CA14 ,  2H048CA17 ,  2H048CA24 ,  2K009AA03 ,  2K009BB01 ,  2K009CC02 ,  2K009CC03 ,  2K009DD04 ,  4F100AA23B ,  4F100AB01D ,  4F100AK45A ,  4F100AR00C ,  4F100AT00A ,  4F100BA03 ,  4F100BA04 ,  4F100BA07 ,  4F100EH66 ,  4F100GB41 ,  4F100GB51 ,  4F100JG05C ,  4F100JN06 ,  4F100YY00B