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J-GLOBAL ID：201103017293874178

マイクロ流体センサの製造方法

Inventor： アイリフェ,ハロルド・イー ,  キング,カーティス・エス
Applicant, Patent owner： イーアイ・スペクトラ・エルエルシー
Agent (6)： 小野 新次郎 ,  社本 一夫 ,  小林 泰 ,  千葉 昭男 ,  富田 博行 ,  阿久津 勝久
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2011503986
Publication number (International publication number)：2011516884
Application date： Apr. 07, 2009
Publication date： May. 26, 2011
Summary：

構成部品化された基板層を典型的に含む、マイクロ流体センサを製造する方法。そのような方法の1つは、それらを積み上げて、少なくとも第1のキャップ層と、第1のチャネル層と、インテロゲイション層と、第2のチャネル層とを形成することを可能にするように構成された複数の材料の層を供給するステップを含む。組み立て中、基板層のリボン部は、挟み込み構造の厚さを通して要素を協調的に整列させるように挟み込まれる。次いで、個々のセンサは、挟み込み構造のリボンから取り外される。構成部品化するステップは、連続するセンサのための1つまたは複数の要素を、リボンの軸の長さに沿って間隔を置いて形成するステップを含む。ある要素は、好ましくは、導電性のインクと印刷プロセスとを使用し、時には、少なくとも1つのリボンの厚さを貫通して電気を導くように動作可能な位置に材料を置いて、基板上に印刷された、導電性のパターン化された構造を含む。他の要素は、リボン部の中に機械加工、スタンプ加工、または切断加工されうるチャネル、トンネル、およびバイアを含むことができる。

Claim (excerpt)：

マイクロ流体センサを製造する方法において、 薄膜基板を設けるステップと、 導電性インクを、印刷プロセスにより前記基板の両面上に塗布するステップであって、前記基板のそれぞれの面上に配置された少なくとも1つの電極を形成する、ステップと、 トンネルを、前記薄膜基板を貫通して形成するステップとを含む、方法。

IPC (1)：

G01N 15/12

FI (1)：

G01N15/12 A