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J-GLOBAL ID:201103022044157745
コンタクタ、半導体装置の試験装置、及び半導体装置の製造方法
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
岡本 啓三
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2010041700
Publication number (International publication number):2011179842
Application date: Feb. 26, 2010
Publication date: Sep. 15, 2011
Summary:
【課題】コンタクタ、半導体装置の試験装置、及び半導体装置の製造方法において、試験の信頼性を高めること。【解決手段】第1の材料を含むコンタクタ母材1と、コンタクタ母材1の先端部1aのうち、半導体装置30の電極31との接触面1bにのみ選択的に形成された、第2の材料を含む導体膜10aとを有するコンタクタ9による。【選択図】図2
Claim (excerpt):
第1の材料を含むコンタクタ母材と、
前記コンタクタ母材の先端部のうち、半導体装置の電極との接触面にのみ選択的に形成された、第2の材料を含む導体膜と、
を有することを特徴とするコンタクタ。
IPC (5):
G01R 1/067
, G01R 1/073
, G01R 31/28
, G01R 31/26
, H01L 21/66
FI (5):
G01R1/067 A
, G01R1/073 E
, G01R31/28 K
, G01R31/26 J
, H01L21/66 B
F-Term (21):
2G003AB06
, 2G003AG03
, 2G003AG04
, 2G003AG08
, 2G003AG12
, 2G011AA03
, 2G011AA15
, 2G011AB01
, 2G011AC13
, 2G011AC14
, 2G011AE03
, 2G132AA00
, 2G132AF00
, 2G132AF02
, 2G132AL03
, 4M106AA01
, 4M106AA02
, 4M106BA01
, 4M106DD03
, 4M106DD11
, 4M106DD18
Patent cited by the Patent:
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