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J-GLOBAL ID:201103022044157745

コンタクタ、半導体装置の試験装置、及び半導体装置の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 岡本 啓三
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2010041700
Publication number (International publication number):2011179842
Application date: Feb. 26, 2010
Publication date: Sep. 15, 2011
Summary:
【課題】コンタクタ、半導体装置の試験装置、及び半導体装置の製造方法において、試験の信頼性を高めること。【解決手段】第1の材料を含むコンタクタ母材1と、コンタクタ母材1の先端部1aのうち、半導体装置30の電極31との接触面1bにのみ選択的に形成された、第2の材料を含む導体膜10aとを有するコンタクタ9による。【選択図】図2
Claim (excerpt):
第1の材料を含むコンタクタ母材と、 前記コンタクタ母材の先端部のうち、半導体装置の電極との接触面にのみ選択的に形成された、第2の材料を含む導体膜と、 を有することを特徴とするコンタクタ。
IPC (5):
G01R 1/067 ,  G01R 1/073 ,  G01R 31/28 ,  G01R 31/26 ,  H01L 21/66
FI (5):
G01R1/067 A ,  G01R1/073 E ,  G01R31/28 K ,  G01R31/26 J ,  H01L21/66 B
F-Term (21):
2G003AB06 ,  2G003AG03 ,  2G003AG04 ,  2G003AG08 ,  2G003AG12 ,  2G011AA03 ,  2G011AA15 ,  2G011AB01 ,  2G011AC13 ,  2G011AC14 ,  2G011AE03 ,  2G132AA00 ,  2G132AF00 ,  2G132AF02 ,  2G132AL03 ,  4M106AA01 ,  4M106AA02 ,  4M106BA01 ,  4M106DD03 ,  4M106DD11 ,  4M106DD18
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)

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