Pat
J-GLOBAL ID:201103024894470208
芳香族ポリエステルの製造方法
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
,
Agent (1):
平山 精孝
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2011083713
Publication number (International publication number):2011132549
Application date: Apr. 05, 2011
Publication date: Jul. 07, 2011
Summary:
【課題】本発明は、高温での加熱成形後においても着色が殆ど発生せず、著しく高い透明性を保持するばかりではなく、併せて、高い流動性をも兼ね備えた芳香族ポリエステルの製造方法を提供する。【解決手段】(i)多価フェノールと、芳香族多価カルボン酸、その酸ハロゲン化物又は酸無水物とを反応させて芳香族ポリエステルを製造する方法において、芳香族多価カルボン酸、その酸ハロゲン化物又は酸無水物の全仕込み量に対して0〜40モル%の式(II):X-C(O)-Rで示される化合物を用いて反応させる段階、及び(ii)得られた芳香族ポリエステルを、(i)における芳香族多価カルボン酸、その酸ハロゲン化物又は酸無水物の全仕込み量に対して3〜80モル%の上記式(II)で示される化合物を用いて更に反応させる段階を含む芳香族ポリエステルの製造方法。【選択図】なし
Claim (excerpt):
(i)多価フェノールと、芳香族多価カルボン酸、その酸ハロゲン化物又は酸無水物とを反応させて芳香族ポリエステルを製造する方法において、芳香族多価カルボン酸、その酸ハロゲン化物又は酸無水物の全仕込み量に対して0〜40モル%の下記式(II):
X-C(O)-R (II)
(式(II)中、Xは塩素、臭素又はヨウ素であり、かつRは、脂肪族基、脂環族基、単環芳香族基、多環芳香族基、縮合芳香族基、複素環基、若しくはこれらの組み合わせから成る基であり、又はこれらの基の少なくとも一つの水素が、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素、アルコキシル基、メルカプト基、スルフェナト基、スルフィナト基、スルホ基、アルコキシカルボニル基、アシル基、アルコキシスルフィニル基、アルキルチオカルボニル基、チオスルホ基、シアノ基、チオシアノ基、イソシアノ基、イソシアナト基、イソチオシアナト基又はニトロ基により置換されているところの基である)
で示される化合物を用いて反応させる段階、及び
(ii)得られた芳香族ポリエステルを、(i)における芳香族多価カルボン酸、その酸ハロゲン化物又は酸無水物の全仕込み量に対して3〜80モル%の上記式(II)で示される化合物を用いて更に反応させる段階
を含む芳香族ポリエステルの製造方法。
IPC (2):
FI (2):
F-Term (26):
4J029AA03
, 4J029AA04
, 4J029AB01
, 4J029AB04
, 4J029AC01
, 4J029AC02
, 4J029AD01
, 4J029AD06
, 4J029AE01
, 4J029AE04
, 4J029BB13
, 4J029CB05
, 4J029CB06
, 4J029FB06
, 4J029FB07
, 4J029HA01
, 4J029HB05
, 4J029JB061
, 4J029JC091
, 4J029JF031
, 4J029KC01
, 4J029KC02
, 4J029KC03
, 4J029KC06
, 4J029KE09
, 4J029KH05
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
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ポリカーボネート樹脂
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2007-092112
Applicant:三菱化学株式会社
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電子写真感光体
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-030953
Applicant:三菱化学株式会社
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末端修飾ポリカーボネート樹脂及びその製造法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-259740
Applicant:三菱化学株式会社
-
ポリエステル及びその製造法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2006-149892
Applicant:国立大学法人北海道大学, ニッタ株式会社
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Article cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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