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J-GLOBAL ID:201103025454371093

高分子ゲルの製造方法およびこの製造方法で得られた高分子ゲル

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 小山 有
Gazette classification:特許公報
Application number (International application number):2003055168
Publication number (International publication number):2004263081
Patent number:3747227
Application date: Mar. 03, 2003
Publication date: Sep. 24, 2004
Claim (excerpt):
【請求項1】 基板表面を疎水化処理した後に親水化処理し、次いでこの基板表面に天然高分子からなるゾルを流し出し、この天然高分子ゾルを冷却してゲル状とした後、基板から剥離することを特徴とする高分子ゲルの製造方法。
IPC (2):
C08J 3/00 ( 200 6.01) ,  C08L 93/00 ( 200 6.01)
FI (2):
C08J 3/00 CFJ ,  C08L 93:00
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
  • パッチ
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平11-298201   Applicant:ロレアル
Cited by examiner (1)
  • パッチ
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平11-298201   Applicant:ロレアル

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