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J-GLOBAL ID：201103025454371093

高分子ゲルの製造方法およびこの製造方法で得られた高分子ゲル

Inventor： 中嶋 光敏 ,  菊池 佑二 ,  岩本 悟志
Applicant, Patent owner： 独立行政法人食品総合研究所
Agent (1)： 小山 有
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2003055168
Publication number (International publication number)：2004263081
Patent number：3747227
Application date： Mar. 03, 2003
Publication date： Sep. 24, 2004
Claim (excerpt)：

【請求項1】 基板表面を疎水化処理した後に親水化処理し、次いでこの基板表面に天然高分子からなるゾルを流し出し、この天然高分子ゾルを冷却してゲル状とした後、基板から剥離することを特徴とする高分子ゲルの製造方法。

IPC (2)：

C08J 3/00 ( 200 6.01) ,  C08L 93/00 ( 200 6.01)

FI (2)：

C08J 3/00 CFJ ,  C08L 93:00

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• パッチ
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-298201   Applicant：ロレアル