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J-GLOBAL ID：201103028375236139

テンプレート及びパターン形成方法

Inventor： 柏木 宏之 ,  福原 和也 ,  稲浪 良市 ,  河野 拓也
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (20)： 蔵田 昌俊 ,  河野 哲 ,  中村 誠 ,  福原 淑弘 ,  峰 隆司 ,  白根 俊郎 ,  村松 貞男 ,  野河 信久 ,  幸長 保次郎 ,  河野 直樹 ,  砂川 克 ,  風間 鉄也 ,  勝村 紘 ,  河井 将次 ,  佐藤 立志 ,  岡田 貴志 ,  堀内 美保子 ,  竹内 将訓 ,  市原 卓三 ,  山下 元
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2009138497
Publication number (International publication number)：2010287625
Application date： Jun. 09, 2009
Publication date： Dec. 24, 2010
Summary：

【課題】微細パターンを精度よく確実に形成することが可能なテンプレート及びパターン形成方法を提供する。【解決手段】凹部11及び凸部12を有するパターンが形成された透光性基板10と、凹部の底面及び凸部の上面に形成された金属膜の遮光部21及び22とを備え、前記テンプレートの凸部の側壁は傾斜している。前記テンプレートの凹部は、前記凹部の底面から前記凸部の上面に向かって拡がっている。光硬化性材料パターンは閉ループ状パターンであり、前記テンプレートを離型した後、前記光硬化性材料パターンの一部を除去して前記閉ループ状パターンを切断する工程を備える。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

凹部及び凸部を有するパターンが形成された透光性基板と、 前記凹部の底面及び前記凸部の上面に形成された遮光部と、 を備え、 前記凸部の側壁は傾斜している ことを特徴とするインプリントリソグラフィ用のテンプレート。

IPC (2)：

H01L 21/027 ,  B29C 59/02

FI (2)：

H01L21/30 502D ,  B29C59/02 B

F-Term (13)：

4F209AA44 ,  4F209AC05 ,  4F209AF01 ,  4F209AG05 ,  4F209AH33 ,  4F209PA02 ,  4F209PA15 ,  4F209PB01 ,  4F209PN06 ,  4F209PN09 ,  4F209PQ11 ,  4F209PW23 ,  5F046AA28