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J-GLOBAL ID:201103028467313431
中空シリカ粉末、その製造方法及び用途
Inventor:
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,
,
Applicant, Patent owner:
,
Agent (2):
長谷川 芳樹
, 清水 義憲
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2009191591
Publication number (International publication number):2011042527
Application date: Aug. 21, 2009
Publication date: Mar. 03, 2011
Summary:
【課題】 本発明は、耐アルカリ性が優れた中空シリカ粉末、その製造方法及び用途を提供するものである。【解決手段】 シリカ(SiO2)を主成分とし、平均粒子径が5〜120nm、シェルの厚さが1〜35nm、シラノール基(≡Si-OH基)の数が1〜10個/nm2である中空シリカ粉末。コアとなる有機ポリマー粒子は、重合性モノマーを主成分としてこれにイオン性コモノマーをモル比で150:1〜2:1の割合で共重合させてなるソープフリー重合によって平均粒子径5〜90nmの粒子を製造し、陽イオン性水溶性高分子と非イオン性水溶性高分子を加え、コア粒子を含む液体を水からアルコールに置換した後、アルコキシシラン、水及び塩基性物質を添加してシリカを被覆し、平均粒子径5〜120nm、シリカシェルの厚さ1〜35nmのコアシェル粒子からなる粉末を製造し、その後コアを除去する中空シリカ粉末の製造方法。【選択図】なし
Claim (excerpt):
シリカ(SiO2)を主成分とし、平均粒子径が5〜120nm、シェルの厚さが1〜35nm、単位表面積当たりのシラノール基(≡Si-OH基)の数が1〜10個/nm2であることを特徴とする中空シリカ粉末。
IPC (1):
FI (1):
F-Term (19):
4G072AA25
, 4G072BB05
, 4G072BB16
, 4G072DD05
, 4G072DD06
, 4G072DD07
, 4G072GG01
, 4G072HH30
, 4G072JJ11
, 4G072KK03
, 4G072LL11
, 4G072MM01
, 4G072MM21
, 4G072MM36
, 4G072RR05
, 4G072TT01
, 4G072TT30
, 4G072UU07
, 4G072UU17
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