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J-GLOBAL ID：201103030800753279

位相分布測定方法および装置、位相補正方法および装置、並びに、磁気共鳴撮像装置

Inventor： 三好 光晴 ,  押尾 晃一
Applicant, Patent owner： ジーイー・メディカル・システムズ・グローバル・テクノロジー・カンパニー・エルエルシー
Agent (1)： 井島 藤治 (外1名)
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：1999301077
Publication number (International publication number)：2001120515
Patent number：3510542
Application date： Oct. 22, 1999
Publication date： May. 08, 2001
Claim (excerpt)：

【請求項1】 磁気共鳴撮像した画像において1次元プロファイルを抽出したときに、複素数で与えられる前記1次元プロファイルのN個のピクセルデータをp1,p2,・・・,pk-1,pk,pk+1,・・・,pNとするとき、qk=pk*・pk-1 但し、pk*は、pkの複素共役を示す。で表される式を用いて演算を行い、qkの位相からピクセル位置kにおける位相の微分値を求めることを各ピクセルについて行い、ピクセルごとの前記微分値をピクセル位置に対して積分することにより、前記微分値の積分値をピクセルごとに求め、前記積分値により位相分布を形成する、ことを特徴とする位相分布測定方法。

IPC (3)：

A61B 5/055 ,  G01R 33/32 ,  G01R 33/54

FI (4)：

A61B 5/05 374 ,  A61B 5/05 376 ,  G01N 24/02 520 Y ,  G01N 24/02 530 Y

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• 特開平4-288142
  

Cited by examiner (1)

• 特開平4-288142