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J-GLOBAL ID：201103031146030641

完全縮合オリゴシルセスキオキサン及びそれらの製造方法

Inventor： 川上 雄資 ,  大井 册雄 ,  斉藤 憲明 ,  山本 洋之 ,  新家 悟之
Applicant, Patent owner： 小西化学工業株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2009255943
Publication number (International publication number)：2011098939
Application date： Nov. 09, 2009
Publication date： May. 19, 2011
Summary：

【課題】フェニル基にトリアルキルシリル基を有するPOSSの選択的合成と単離、及びニトロ化の提供。【解決手段】トリアルキルシリルフェニル基を有する式(1)で表される完全縮合シルセスキオキサンを、トリアルキルシリルフェニル基を有するトリアルコキシシランから合成及び単離する。トリアルキルシリル基をニトロ基に変換すれば、更に他の機能性官能基の導入を可能にする。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

一般式(1)又は一般式(2)

IPC (1)：

C07F 7/21

FI (1)：

C07F7/21

F-Term (16)：

4H039CA92 ,  4H039CL25 ,  4H049VN01 ,  4H049VP08 ,  4H049VP09 ,  4H049VP10 ,  4H049VQ88 ,  4H049VR21 ,  4H049VR24 ,  4H049VR43 ,  4H049VS21 ,  4H049VS88 ,  4H049VT47 ,  4H049VU20 ,  4H049VV03 ,  4H049VW02