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J-GLOBAL ID:201103035272635333

分子の絶対配向方向と実効的な二次非線形光学定数との同時測定方法およびその装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 上島 淳一
Gazette classification:特許公報
Application number (International application number):2000076122
Publication number (International publication number):2001264250
Patent number:4392948
Application date: Mar. 17, 2000
Publication date: Sep. 26, 2001
Claim (excerpt):
【請求項1】光源と、前記光源の光路上に順次に配置された測定用参照試料とフェイズジェネレーターと被測定対象物とを有し、位相第二高調波発生法により前記被測定対象物に関するフリンジを取得する測定装置によって、分子の絶対配向方向と実効的な二次非線形光学定数とを同時に測定する分子の絶対配向方向と実効的な二次非線形光学定数との同時測定方法であって、 前記位相第二高調波発生法により、前記測定用参照試料と前記被測定対象物との距離を固定するとともに前記フェイズジェネレーターを回転させることにより光路長を変化させて第二高調波を測定し、第二高調波の強度と前記フェイズジェネレーターの回転角との関数として、前記被測定対象物に関するフリンジを取得する第1のステップと、 前記位相第二高調波発生法により前記測定用参照試料から発生する第二高調波と前記被測定対象物から発生する第二高調波とが干渉し合う位置における第二高調波のパワーを表す演算式に、既知の値を代入してフィッティングパラメータを変化させることによって、前記第1のステップにより取得した前記フリンジのフィッティングを行って、実効的な二次非線形光学定数を得るとともに、該実効的な二次非線形光学定数の符号に基づいて分子の絶対配向方向を取得する第2のステップと を有する分子の絶対配向方向と実効的な二次非線形光学定数との同時測定方法。
IPC (2):
G01N 21/45 ( 200 6.01) ,  G01N 21/23 ( 200 6.01)
FI (2):
G01N 21/45 A ,  G01N 21/23
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
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Article cited by the Patent:
Cited by examiner (3)

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