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J-GLOBAL ID：201103036347892929

転写装置および転写方法

Inventor： 伊谷 慎也 ,  藤原 茂 ,  小久保 光典 ,  鐘本 政和
Applicant, Patent owner： 東芝機械株式会社
Agent (5)： 三好 秀和 ,  岩▲崎▼ 幸邦 ,  伊藤 正和 ,  高橋 俊一 ,  高松 俊雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2009219000
Publication number (International publication number)：2011071191
Application date： Sep. 24, 2009
Publication date： Apr. 07, 2011
Summary：

【課題】型に形成されている微細な転写パターンを基材に設けられている紫外線硬化樹脂に転写するための転写装置において、均一な強度の紫外線を紫外線硬化樹脂に照射可能であると共に、紫外線硬化樹脂に紫外線を照射しているときであっても、型と基材とを撮影可能な転写装置を提供する。【解決手段】型Mに形成されている微細な転写パターンを基材W1に設けられている紫外線硬化樹脂W2に転写するための転写装置1において、前記転写をするときに型と基材とを所定の位置から撮影する撮影装置5と、前記転写をするときに、撮影装置5が前記所定の撮影位置に存在しているにもかかわらず紫外線硬化樹脂W2にほぼ均一な紫外線を照射できる位置に設けられている紫外線発生装置3とを有する。【選択図】図3

Claim (excerpt)：

型に形成されている微細な転写パターンを基材に設けられている紫外線硬化樹脂に転写するための転写装置において、 前記転写をするときに前記型と前記基材とを所定の位置から撮影する撮影装置と、 前記転写をするときに、前記撮影装置が前記所定の撮影位置に存在しているにもかかわらず前記紫外線硬化樹脂にほぼ均一な紫外線を照射できる位置に設けられている紫外線発生装置と、 を有することを特徴とする転写装置。

IPC (1)：

H01L 21/027

FI (1)：

H01L21/30 502D

F-Term (2)：

5F046AA28 ,  5F146AA28