Pat
J-GLOBAL ID:201103037198996070
銅微粒子の製造方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2):
細井 勇
, 中 敦士
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2009229482
Publication number (International publication number):2011074476
Application date: Oct. 01, 2009
Publication date: Apr. 14, 2011
Summary:
【課題】粒子径が10nm以下のナノサイズでかつ、粒度分布幅の狭い銅微粒子の製造方法を提供する。【解決手段】還元反応水溶液中の水酸化第二銅(Cu(OH)2)を有機分散剤(D)と還元剤である水素化ホウ素ナトリウム(NaBH4)の存在下に撹拌しながら還元反応させる、銅微粒子の製造方法であって、還元反応中に該水溶液中には水酸化第二銅が溶解して生成する銅イオンと未溶解の水酸化第二銅が共存していて、還元反応の進行により該水溶液中の銅イオンが還元されて銅原子と銅微粒子が生成するのに伴い、前記未溶解の水酸化第二銅が該水溶液中に連続的に溶解して銅イオンを生成して、還元反応が該水溶液中で水酸化第二銅の飽和溶解度ないしそれ以下の濃度で行なわれることを特徴とする、銅微粒子の製造方法。【選択図】なし
Claim (excerpt):
還元反応水溶液中の水酸化第二銅(Cu(OH)2)を有機分散剤(D)と還元剤である水素化ホウ素ナトリウム(NaBH4)の存在下に撹拌しながら還元反応させる、銅微粒子の製造方法であって、
還元反応中に該水溶液中には水酸化第二銅が溶解して生成する銅イオンと未溶解の水酸化第二銅が共存していて、還元反応の進行により該水溶液中の銅イオンが還元されて銅原子と銅微粒子が生成するのに伴い、前記未溶解の水酸化第二銅が該水溶液中に連続的に溶解して銅イオンを生成して、還元反応が該水溶液中で水酸化第二銅の飽和溶解度ないしそれ以下の濃度で行なわれることを特徴とする、銅微粒子の製造方法。
IPC (2):
FI (2):
F-Term (15):
4K017AA03
, 4K017AA06
, 4K017BA05
, 4K017CA08
, 4K017DA01
, 4K017DA07
, 4K017DA09
, 4K017EJ01
, 4K017FB07
, 4K018BA02
, 4K018BB05
, 4K018BC30
, 4K018BD01
, 4K018BD04
, 4K018BD10
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