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J-GLOBAL ID：201103038941148299
超短パルス電子回折装置
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
清水 守
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2000289154
Publication number (International publication number)：2002098655
Patent number：3525144
Application date： Sep. 22, 2000
Publication date： Apr. 05, 2002
Claim (excerpt)：
【請求項1】 (a)超短パルスレーザー光発生装置と、(b)該超短パルスレーザー光発生装置からの超短パルスレーザー光が照射される陰極と、(c)該陰極から発生する電子パルスを加速し、ほぼ10keVから50keVに加速した電子パルスを得る加速装置と、(d)該加速装置によって得られる電子パルスを試料に作用させる相互作用部と、(e)該相互作用部における電子回折像を観測する手段とを具備し、(f)前記陰極面にほぼ垂直にかつ電子放出方向とは逆方向に超短パルスレーザー光を照射するとともに、前記陰極から前記相互作用部までの距離を、約20cmの空間的距離に設定することを特徴とする超短パルス電子回折装置。
IPC (1)：
FI (1)：
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