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J-GLOBAL ID：201103040906727310

ビーム記録方法及び装置

Inventor：
加園 修

About 加園 修

, 
熊坂 治

About 熊坂 治


Applicant, Patent owner：
パイオニア株式会社

About パイオニア株式会社


Agent (3)： 藤村 元彦 ,  永岡 重幸 ,  高野 信司
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2009294786
Patent number：4466975
Application date： Dec. 25, 2009
Summary：
【要約】 【課題】 ビーム電流のロスが無く、高精度でスループットの高いビーム記録装置及び記録方法を提供する 【解決手段】 露光ビームを偏向させて照射位置を移動させる工程と、露光ビームの偏向によって潜像を形成する工程と、上記潜像パターンのうち、スペースパターンを形成する場合には、露光ビームをブランキングさせるか、もしくは次に記録すべき潜像へ露光ビームを偏向させるか、の何れかを選択的に実行してスペースパターンを形成する工程と、を有する。 【選択図】 図13
Claim (excerpt)：
【請求項1】 基板を回転させつつ、基板上に形成されたレジスト層に、露光ビームを照射することにより前記レジスト層にスペースパターン及びマークパターンからなる潜像パターンが形成された基板を製造する製造方法であって、 前記露光ビームを偏向させて照射位置を移動させる工程と、 前記露光ビームの偏向によって潜像を形成する工程と、 前記潜像パターンのうち、前記スペースパターンを形成する場合には、前記露光ビームをブランキングさせるか、もしくは次に記録すべき潜像へ前記露光ビームを偏向させるか、の何れかを選択的に実行して前記スペースパターンを形成する工程と、 を有することを特徴とする製造方法。
IPC (6)：
G11B 7/26 ( 200 6.01) ,  G11B 7/0045 ( 200 6.01) ,  G11B 5/84 ( 200 6.01) ,  G11B 9/10 ( 200 6.01) ,  G03F 7/20 ( 200 6.01) ,  H01L 21/027 ( 200 6.01)
FI (6)：
G11B 7/26 501 ,  G11B 7/004 Z ,  G11B 5/84 Z ,  G11B 9/10 A ,  G03F 7/20 504 ,  H01L 21/30 541 B
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3)

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