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J-GLOBAL ID:201103042419408024
変位分布計測方法、装置及びプログラム
Inventor:
,
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (2):
杉村 憲司
, 英 貢
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2009210972
Publication number (International publication number):2011059017
Application date: Sep. 11, 2009
Publication date: Mar. 24, 2011
Summary:
【課題】計測物体の変位分布を高速に計測するとともに小型化が可能な変位分布計測方法、装置及びプログラムを提供する。【解決手段】本発明による変位分布計測装置(1)は、所定の波長の光を照射するレーザ光源(11)と、照射された光を物体光と参照光とに分離するビームスプリッタ(14)と、参照光の位相を所定量だけシフトさせるミラー付きPZTステージ(20)と、位相シフトされた参照光を複数に分岐するペリクルビームスプリッタ(17,18)と、計測物体(23)により散乱された物体光と、分岐された参照光との干渉縞を撮影するCCDセンサ(15,16)とを備えることを特徴とする。【選択図】図1
Claim (excerpt):
off-axis光学系における位相シフトデジタルホログラフィにより計測物体の変形による変位を計測する変位分布計測方法であって、
所定の波長のレーザ光を放射するステップと、
放射された前記レーザ光を、前記計測物体に照射するための物体光と、前記物体光との干渉縞を生成するための参照光とに分離するステップと、
前記参照光の位相を所定量だけシフトさせるステップと、
光軸が互いに平行である所定の数の撮像素子の各々に入射するために前記位相シフトされた参照光を複数に分岐するステップと、
前記計測物体により散乱された前記物体光と、分岐された各参照光との干渉縞を各撮像素子により撮像するステップと、
各撮像素子により撮像された前記干渉縞の各々から前記計測物体の再生像の複素振幅分布を算出し、前記計測物体の変形前後の当該複素振幅分布の位相差から前記計測物体の変位分布を計測するステップと、
を含むことを特徴とする変位分布計測方法。
IPC (2):
FI (2):
F-Term (32):
2F064AA11
, 2F064FF01
, 2F064FF05
, 2F064GG12
, 2F064GG22
, 2F064GG41
, 2F064GG44
, 2F064HH08
, 2F064LL02
, 2F064LL06
, 2F065AA65
, 2F065FF54
, 2F065GG04
, 2F065JJ03
, 2F065JJ05
, 2F065JJ26
, 2F065LL00
, 2F065LL12
, 2F065LL21
, 2F065LL25
, 2F065LL46
, 2F065LL51
, 2F065PP01
, 2F065PP11
, 2F065QQ00
, 2F065QQ03
, 2F065QQ14
, 2F065QQ16
, 2F065QQ17
, 2F065QQ23
, 2F065QQ33
, 2F065QQ34
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