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J-GLOBAL ID：201103043655480441

パターン光投影装置

Inventor： 安井 惠美 ,  安井 克明
Applicant, Patent owner： 安井 惠美
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2010028337
Publication number (International publication number)：2011163988
Application date： Feb. 12, 2010
Publication date： Aug. 25, 2011
Summary：

【課題】パターン投影法による人の頭部等の3次元計測に用いられるパターン光を、簡易な装置で明るく、高精細に投影する。【解決手段】フラッシュを光源とする事で簡易な構造とし、投影する直線状のパターンと平行な方向には広く、垂直な方向には狭いスリット状の絞りを設ける事により、投影された像のパターンと垂直な方向のぼけ幅を小さくし、高精細なパターン光を得る。また、ライトパイプを用いる事により明るいパターン光を得、高精度な3次元計測を行う。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

撮影用のフラッシュより発せられたフラッシュ光を導入するフラッシュ光導入手段と、被写体上に視差方向と垂直な方向に伸びる直線状のパターン光を投影するための、直線状のパターンが描かれた透過型のパターンマスクと、パターンマスクによって形成される直線状のパターン光と平行な方向には広く、垂直な方向には狭い光路を持つ結像光学手段を備える事を特徴とするパターン光投影装置。

IPC (1)：

G01B 11/25

FI (1)：

G01B11/25 H

F-Term (17)：

2F065AA53 ,  2F065BB05 ,  2F065BB27 ,  2F065CC16 ,  2F065DD03 ,  2F065DD05 ,  2F065DD10 ,  2F065FF01 ,  2F065FF04 ,  2F065GG08 ,  2F065GG23 ,  2F065HH06 ,  2F065HH07 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL28 ,  2F065LL30