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J-GLOBAL ID：201103046555453861

シリコンウェハ汚れ検査装置および該方法

Inventor： 赤松 勝 ,  古田 洋平 ,  射場 邦夫
Applicant, Patent owner： 株式会社コベルコ科研
Agent (3)： 小谷 悦司 ,  小谷 昌崇 ,  櫻井 智
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2010087613
Publication number (International publication number)：2011220729
Application date： Apr. 06, 2010
Publication date： Nov. 04, 2011
Summary：

【課題】本発明は、より簡単な構成で、より簡易な情報処理でシリコンウェハの汚れを検査し得るシリコンウェハ汚れ検査装置およびシリコンウェハ汚れ検査方法を提供する。【解決手段】本発明の一シリコンウェハ汚れ検査装置Saは、測定対象であるシリコンウェハSWの表面へ同時に複数の角度から光を投光する投光部1aと、投光部1によって光を投光されたシリコンウェハSWの表面を撮影する撮影部2と、撮像部2によって得られたシリコンウェハSWの表面の画像を1枚用い、前記画像における輝度が所定の閾値以下である領域を汚れとして検出する検出部31とを備える。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

測定対象であるシリコンウェハの表面へ同時に複数の角度から光を投光する投光部と、 前記投光部によって光を投光された前記シリコンウェハの表面を撮影する撮影部と、 前記撮像部によって得られた前記シリコンウェハの表面の画像を1枚用い、前記画像における輝度が所定の閾値以下である領域を汚れとして検出する検出部とを備えること を特徴とするシリコンウェハ汚れ検査装置。

IPC (1)：

G01N 21/956

FI (1)：

G01N21/956 A

F-Term (9)：

2G051AA51 ,  2G051AB01 ,  2G051AB07 ,  2G051BA05 ,  2G051BB02 ,  2G051CA03 ,  2G051CB01 ,  2G051CB05 ,  2G051EB01