(メタ)アクリレートに基づくブロックコポリマー

Inventor： , , , , , , , , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (6)：田中光雄 , 山田卓二 , 森住憲一 , 柴田康夫 , 梶田真理奈 , 上田郁子
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2011519093
Publication number (International publication number)：2011528739
Application date： May. 08, 2009
Publication date： Nov. 24, 2011
Summary：

本発明は、制御重合により製造され、(メタ)アクリレートモノマーおよび共重合性モノマーからなる少なくとも1つのブロックAまたはB、ならびに官能性ポリマーに基づくブロックPを有する、ブロックコポリマーに関する。

Claim (excerpt)：

ブロックPおよび少なくとも1つのブロックAまたはブロックBからなるブロックコポリマーであって、・Pは、OH、SH、RNH-置換されたポリエーテル、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアミドまたはポリオレフィンに基づくポリマーブロックであり、300〜30,000g/molの数平均分子量を有し、・Aは、(メタ)アクリレートモノマーおよび/または共重合性モノマーに基づく、Tg>10°Cを有するブロックであり、・Bは、(メタ)アクリレートモノマーおよび共重合性モノマーに基づく、Tg<10°Cを有するブロックであり、制御重合により、少なくとも1つのブロックAおよび/またはBと共有結合した開始剤ビルディングブロックとPとの共有結合によって、A、BおよびPが互いに結合されたブロックコポリマー。

IPC (3)：

C08F 297/00 , C09J 153/00 , C09K 3/10

FI (4)：

C08F297/00 , C09J153/00 , C09K3/10 E , C09K3/10 D

F-Term (26)：

4H017AB01 , 4H017AB03 , 4H017AB13 , 4H017AD03 , 4J026HA02 , 4J026HA43 , 4J026HA44 , 4J026HA45 , 4J026HB06 , 4J026HB11 , 4J026HB25 , 4J026HB32 , 4J026HB44 , 4J026HE02 , 4J040DB042 , 4J040DF041 , 4J040DF051 , 4J040DM001 , 4J040ED001 , 4J040ED031 , 4J040ED041 , 4J040EE001 , 4J040EF001 , 4J040EG001 , 4J040JB01 , 4J040JB09

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

両親媒性スターブロックポリマー
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2007-535267 Applicant：フイルメニツヒソシエテアノニム
積層構造体
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2007-139267 Applicant：三井化学株式会社
フィルム用防曇剤
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2006-348276 Applicant：三井化学株式会社

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