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J-GLOBAL ID：201103051812685799

水処理装置

Inventor： 能勢 泰祐 ,  横山 祐三 ,  中村 晶
Applicant, Patent owner： 積水化学工業株式会社
Agent (1)： 杉本 勝徳
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2010029921
Publication number (International publication number)：2011161412
Application date： Feb. 15, 2010
Publication date： Aug. 25, 2011
Summary：

【課題】放電によって発生するラジカル等の活性種を被処理水に効率よく作用させて、処理速度を向上させることができる水処理装置を提供することを目的としている。【解決手段】被処理水Wをシャワーノズル7から水滴化して、容器本体21内の円筒状電極4と線状電極3との間で生じる放電場内に供給するとともに、容器本体21内に混合気体供給手段8aによって酸素を25〜90容量%含む混合気体を充満させて被処理水W中の有機物を分解処理するようにした。【選択図】 図1

Claim (excerpt)：

被処理水を水滴化手段によって水滴化して、放電場を形成した処理室内に供給して水滴中の処理対象物質を分解処理する水処理装置であって、 前記処理室に酸素を25〜90容量%含む混合気体を充満させる混合気体供給手段を備えていることを特徴とする水処理装置。

IPC (1)：

C02F 1/48

FI (1)：

C02F1/48 B

F-Term (22)：

4D061DA03 ,  4D061DA08 ,  4D061DB09 ,  4D061DB19 ,  4D061DC08 ,  4D061DC09 ,  4D061DC13 ,  4D061EA13 ,  4D061EB02 ,  4D061EB07 ,  4D061EB14 ,  4D061EB16 ,  4D061EB19 ,  4D061EB28 ,  4D061EB30 ,  4D061EB33 ,  4D061EB34 ,  4D061EB35 ,  4D061EB40 ,  4D061ED01 ,  4D061ED02 ,  4D061ED03

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

• オゾンを用いた水処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-078624   Applicant：富士電機株式会社
• 流体処理方法及び流体処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-088844   Applicant：神鋼パンテツク株式会社
• 水処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2008-289467   Applicant：積水化学工業株式会社

Cited by examiner (2)

• 水処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2008-289467   Applicant：積水化学工業株式会社
• 水処理方法およびオゾン水
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2006-022570   Applicant：国立大学法人愛媛大学