紫外線照射による水不溶性DNA架橋体の製造方法と該架橋体の環境浄化材料としての利用

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Applicant, Patent owner：
Agent (4)：萼経夫 , 中村壽夫 , 宮崎嘉夫 , 加藤勉
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：1999255733
Publication number (International publication number)：2001081098
Patent number：4206456
Application date： Sep. 09, 1999
Publication date： Mar. 27, 2001
Claim (excerpt)：

【請求項1】支持体上の水溶性二本鎖DNAの薄層又は支持体上の水溶性二本鎖DNAの溶液の液膜の濃縮乃至乾涸により得られた薄層に、波長が250〜270nmの範囲の紫外線を照射することにより支持体に固定された水不溶性架橋重合体の膜を形成し、これを該支持体から剥離することにより製造される水不溶性DNAフィルムの製造方法。

IPC (8)：

C07H 21/04 ( 200 6.01) , C08H 5/00 ( 200 6.01) , C08J 5/18 ( 200 6.01) , B01D 39/14 ( 200 6.01) , A23L 1/30 ( 200 6.01) , A23L 3/3562 ( 200 6.01) , A61K 31/711 ( 200 6.01) , A61P 39/02 ( 200 6.01)

FI (8)：

C07H 21/04 Z , C08H 5/00 , C08J 5/18 , B01D 39/14 B , A23L 1/30 Z , A23L 3/356 , A61K 31/711 , A61P 39/02

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

BioTechniques, 199010, Vol.9/No.4, p.472-478
Photochemistry and Photobiology, 1998, Vol.67/No.4, p.386-390
Journal of Biomolecular Structure & Dynamics, 1996, Vol.14/No.1, p.57-65

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