NOx排出物の制御のための水素を用いる触媒処理

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：山口巖
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2011509466
Publication number (International publication number)：2011520600
Application date： Apr. 22, 2009
Publication date： Jul. 21, 2011
Summary：

還元剤として水素を用いる、ガス中のNOxを還元するためにパラジウム触媒を用いる、選択的接触還元法。約0.01〜2.0重量%のPdを有する硫酸ジルコニウム(ZrO2)SO4触媒担体材料を、排ガス流内に配置した触媒床に約70〜200°Cで適用する。担体材料は(ZrO2-SiO2)SO4であってもよい。H2O及び水素は、H2O濃度が約15〜23体積%及びH2/NOxモル比が10〜100の範囲となるまで、触媒の上流において排ガスに注入することができる。水素含有燃料は、ガスタービン内での燃焼のために、ガス化複合発電所内で合成して、排ガス流を生成するものであってもよい。燃料の一部は、水素注入用に分流することができる。

Claim (excerpt)：

H2を用いるガス流中の窒素酸化物(NOx)の選択的接触還元法であって、前記ガス流を(ZrO2)SO4及びパラジウムを含有してなる触媒と接触させる工程を含んでなる、前記方法。

IPC (3)：

B01D 53/94 , B01D 53/86 , B01J 27/053

FI (4)：

B01D53/36 102B , B01D53/36 101A , B01D53/36 D , B01J27/053 A

F-Term (52)：

4D048AA06 , 4D048AB02 , 4D048AC01 , 4D048AC02 , 4D048AC08 , 4D048BA06X , 4D048BA08X , 4D048BA27X , 4D048BA31X , 4D048BA41X , 4D048BA46X , 4D048BB02 , 4D048BB03 , 4D048CC61 , 4D048DA01 , 4D048DA03 , 4D048DA06 , 4D048DA10 , 4D048DA12 , 4G169AA03 , 4G169BA02A , 4G169BA02B , 4G169BA05A , 4G169BA05B , 4G169BB04A , 4G169BB04B , 4G169BB10A , 4G169BB10B , 4G169BC51A , 4G169BC51B , 4G169BC60A , 4G169BC60B , 4G169BC72A , 4G169BC72B , 4G169BD05A , 4G169BD05B , 4G169CA02 , 4G169CA08 , 4G169CA13 , 4G169DA06 , 4G169EA08 , 4G169EA19 , 4G169FA01 , 4G169FA03 , 4G169FB06 , 4G169FB14 , 4G169FB15 , 4G169FB19 , 4G169FB30 , 4G169FB31 , 4G169FB58 , 4G169FC08

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

排ガス浄化触媒および排ガス浄化方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-358714 Applicant：日立造船株式会社
排ガスの浄化方法及び浄化装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2005-078408 Applicant：株式会社ジャパンエナジー, 株式会社ジョモテクニカルリサーチセンター
メタン選択型脱硝触媒用担体、その製造方法およびメタン選択型脱硝触媒
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-012982 Applicant：日立造船株式会社

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