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J-GLOBAL ID：201103054847290460
イオンビームによる表面処理方法及びその装置
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
工業技術院大阪工業技術研究所長
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：1995205332
Publication number (International publication number)：1997031631
Patent number：2992626
Application date： Jul. 18, 1995
Publication date： Feb. 04, 1997
Claim (excerpt)：
【請求項1】イオンビーム照射により材料の表面を処理する方法であって、その裏面が実質的に真空下に曝され、かつ、その表面がガス雰囲気に曝されている材料の裏面に、材料中の原子および/またはガス雰囲気中のガス分子を励起させて材料表面で材料-ガス間および/またはガス自体の反応を起こさせる加速エネルギーを有するイオンビームを照射することを特徴とする、イオンビーム照射による材料の表面処理方法。
IPC (6)：
C23F 4/00
, C23C 8/36
, C23C 14/22
, C23C 16/48
, H01L 21/205
, H01L 21/3065
C23F 4/00 C
, C23C 8/36
, C23C 14/22 F
, C23C 16/48
, H01L 21/205
, H01L 21/302 D
