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J-GLOBAL ID：201103055325996644
偏極イオンビーム発生装置と偏極イオンビーム発生方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2009175501
Publication number (International publication number)：2011029077
Application date： Jul. 28, 2009
Publication date： Feb. 10, 2011
Summary：
【課題】本発明は、光ポンピングを用いることなく量子ビートを利用して偏極イオンビームを発生させることを課題とした。【解決手段】上記課題を解決するために、偏極イオンビーム発生装置は、無偏極のイオンビームを発生するイオン源と、当該イオン源からの無偏極イオンビームを標的に入射するビーム輸送手段と、この標的表面の原子から弾性散乱された偏極イオンを取り出すイオン取出し手段とからなることを特徴とする手段を採用した。 また前記標的が、散乱イオン強度に関して量子ビートに起因する磁気振動を発現する物質であることを特徴とする偏極イオンビーム発生装置を作成した。 さらに、偏極イオンビーム発生方法は、イオン源から無偏極のイオンビームを標的に照射し、当該標的における散乱イオン強度の量子ビートに起因する磁気振動により、前記標的から弾性散乱された偏極イオンを取り出すことを特徴とする手段を用いた。【選択図】 図5
Claim (excerpt)：
偏極イオンビームを発生させる偏極イオンビーム発生装置であって、無偏極のイオンビームを発生するイオン源と、当該イオン源からの無偏極イオンビームを標的に入射するビーム輸送手段と、この標的表面の原子から弾性散乱された偏極イオンを取り出すイオン取出し手段とからなることを特徴とする偏極イオンビーム発生装置。
IPC (3)：
H01J 27/20
, H01J 27/16
, H01J 37/08
H01J27/20
, H01J27/16
, H01J37/08
